蒸鍍過后要放置12個小時，64倍速換算過來，也只要10分鐘。
當然，積分消耗也是非常的夸張，64倍速使用一個小時，就需要消耗6400積分。
好在許秋現在剩余積分非常的多，有20多W，足夠他揮霍了。
模擬實驗室I中除了可以加速外，還有不少其他額外的好處。
一方面，基片不用清洗。
而且，最近因為在做疊層器件，所以現在的基片都已經按照最佳的條件，旋涂好了用于疊層器件的兩層傳輸層，氧化鋅和PFN-Br。
因此，可以直接從底電池的有效層開始旋涂，從而節省大量的時間。
另一方面，模擬實驗人員已經通過若干次旋涂實驗，結合光吸收光譜儀、掃描電子顯微鏡等手段，得到了旋涂轉速和膜厚之間的對應關系。
許秋可以直接按照指定轉速旋涂，即可得到對應的膜厚，不需要自己重復摸索，也節省了不少的時間。
準備就緒，開始實驗。
許秋取來旋涂好兩層傳輸層的基片，首先開始旋涂不同厚度的作為底電池有效層。
在旋涂的過程中，并不能全程64倍加速。
比如夾取基片等過程，必須要按正常速度或者低倍加速。
不過，在基片旋轉的時候，還是可以加速的。
換算下來，平常旋涂一片需要用時2分鐘，現在64倍速下，大概需要用10-15秒鐘。
16片涂完，一共消耗了5分鐘不到的現實時間。
接下來，許秋繼續旋涂M-PEDOT，作為第三層傳輸層，旋涂氧化鋅，作為第四層傳輸層。
這兩層旋涂過后需要擦片、退火。
退火雖然需要十分鐘到十五分鐘，但因為可以把所有基片放在一起退火，所以在64倍加速下，實際耗時可以忽略不計。
兩步旋涂，加上擦片、退火，合計時間每片基片大約30秒左右，共計消耗10分鐘不到。
許秋繼續旋涂頂電池的有效層這步耗時和底電池有效層旋涂類似，同樣是5分鐘不到。
最后一步，是蒸鍍三氧化鉬和銀電極。
在蒸鍍之前，許秋突然靈機一動，他把旋涂出來的16片基片，各自復制成10份，準備同時蒸鍍10次，這樣就可以得到10批器件。
雖然這10批器件的有效層都是完全一樣的，但是因為蒸鍍操作有差異，可以以此近似的排除蒸鍍操作對器件性能的影響。
包括之后的真空放置操作，許秋也準備同時復制出來多個器件，然后摸索不同放置時間對器件性能的影響。
這樣，他雖然只做了一批器件，但是實際上已經把包括蒸鍍、真空放置的重復性實驗都同時完成了，有更大的概率可以讓自己的器件效率波動的更高。
這算是作為人的優勢，如果是模擬實驗室的模擬人員進行操作，是玩不出許秋這樣套路的，它們只會按部就班的一批一批器件進行制備。
就是不知道現在許秋把這個方法開發了出來，他們會不會同步的學會，這一點還有待觀察。
接下來，許秋蒸鍍了10批器件，并真空放置，在64倍加速下，加起來一共不到30分鐘時間。
10批器件全部制備完畢，共計耗時45分鐘左右。
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