其他的都能在化工廠找到原材料。
唐修遠嗯了一聲：“暫時沒有等有需要了，我們會跟你們說的。”
“好！”
王青松答應了下來。
這些人來了有接近一半年的時間，也是時候回去一部分了。
而且中間又來了一些人。
至于生產線，他現在已經完全放開了。
只要把控好設備，別被人弄走拆開研究，那么就不擔心這些人能知道什么。
哪怕是真正的科研大佬來了也抓瞎。
沒辦法，這些機器系統，那些大佬現在都看不懂。
隨后詢問了一下生產情況，他這才離開去了研究所。
現在華科半導體的經營事情，斯波克基本上都交給了副經理，他則是主持研究所的事情。
不過每天他還是會去公司。
老板兼研發的人才多了去了。
只有研究所上了正軌以后，才不需要老板上手。
斯波克正在一張巨大的圖紙上寫寫畫畫。
看到他過來也只是笑著招呼一聲，又低頭工作了起來。
王青松在那里看了一會。
斯波克這才抬頭：“boss，找我有事情，還是說能給我新的靈感？”
研究所里的港島員工看到他過來，自然也是過來做翻譯。
王青松聞言笑了笑：“我可沒有！樣機試驗怎么樣了？”
距離他給的資料已經過去一年時間。
設備已經制造出來了。
或者說，半年前就已經制作出來一套光刻機設備。
但是這臺光刻機有著這個時代光刻的通病。
那就是成品率。
主要原因自然是因為光掩膜的使用壽命。
現在是半導體的遠古時代。
很多后世的軟硬件這個時代都沒有。
和后世的用計算機和eda軟件設計不同的是，這個時代的光掩模真的是靠人工手搓的。
初代工程師先在方格紙上用彩色鉛筆繪制好集成電路版圖。
再用精細的刀片在光掩模母版上，徒手把晶體管和電路連接一點一點刻出來。
最后用母版圖形，用相機縮小50到100倍。
才能用一張用來做光刻的光掩模。
和這種光掩模匹配的自然是接觸式光刻機。
這種光刻機只會簡單粗暴的將光掩模覆蓋在硅片上。
掩模涂層與光刻機涂層直接接觸，再打光照射，完成曝光。
但是這種光照方式的失敗率和成本都很高。
因為膠體本身及其粘附的浮塵顆粒，不僅影響效果，還會對光掩模造成損傷。
10張晶片才能用有一張能用，還會加速光掩模的使用壽命。
成本是相當的高。
后來按照他給的資料，又在接觸式光刻機的基礎上，加了一個水平和垂直方向上可移動的平臺。
以及一個測量光掩模和晶片之間的顯微鏡。
讓兩者在刻錄的時候，靠近又不接近，解決了之前的問題。
也就是接近式的光刻機。
但是這種光刻機解決了之前的問題，但是精度下降。
所以這兩款產品出來以后，他直接就放棄了。