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    第226章 含硅光阻與高考!(1 / 2)

    信息技術部的銀河操作系統已經到了最后階段,內核都已經完成,預計這個月末就能開啟用戶測試,不需要鐘子星操心。

    所以,他迫不及待的就離開了信息部和江浩然轉向元素演變部。

    ......

    中子戰星。

    幾十個化學實驗室里分布著上千人,大家聯合實驗,都領了各自的任務,投入最擅長的行列。

    有的研究光致抗蝕劑、電鍍化學品、封裝材料,部分人攻克高純試劑、特種氣體、溶劑、清洗前摻雜劑、焊劑掩模、酸及腐蝕劑、電子專用膠黏劑。

    這些電子化學品的人才國內非常多,但受限于環境被大量的埋沒。

    此時,他們都被中子星科技的超級人才庫收集,一個個發了offer邀請過來。

    業內頂級的條件,最好的環境,不計代價的投入資金,加上有鐘子星在一旁指導,化學實驗室三天兩頭就有突破的好消息傳來。

    但是,距離真正能夠上臺的高級成品,還有很長一段路要走。

    電子化學品,大部分學過化學的人都有接觸過,甚至在老師的領隊下親自參與過這些材料的合成。

    比方說光刻膠,化學選修課——有機化學基礎上,就有非常詳細完整的合成路線,并且這種路線完全正確,老師還會給學生發布任務,讓大家聯合動手。

    可完整歸完整,大家都能按照步驟一點點的合成,想要登上舞臺,讓半導體巨頭使用你的光刻膠這是不可能的。

    電子化學最高壁壘不是一句空話。

    隨著光刻工藝的升級,對光刻膠的要求也越來越高。

    為了避免光刻膠線條倒塌,線寬越小的光刻工藝,如目前的32nm,28nm、22nm光刻,對光刻膠的要求高的離譜,所需厚度越來越薄。

    22nm的光刻技術制程,光刻膠的厚度要求達到了是100nm左右。

    太厚曝光不足,太薄又無法有效的形成光阻,不能阻擋等離子體對襯底的刻蝕,非常的麻煩,必須要嚴格按照標準來鍍膜。

    鐘子星與江浩然兩人都穿著白大衣,帶著護目鏡和口罩,身邊還跟著幾位助手,獨占一間實驗室。

    “第20次實驗,厚度依然無法達標……”

    江浩然操作著一臺電子顯示器,屏幕上的光刻膠厚度以數學模型呈現,均勻分布,但是遠遠無法達到頂尖的水準。

    稍微低端的刻蝕足夠,但絕對無緣頂級市場。

    “得從其他方面入手!”

    “比如加入一些別的材料?硅材料或碳材料!”鐘子星雙手扶著白色的實驗臺,陷入沉思。

    以傳統的方式進入光刻膠領域,想要超越深耕此道數十年的老牌巨頭顯然是不現實的,得走一走別的路才行。

    “試試看,開始第21次實驗!”

    科研就是在失敗中前進,沒有人能形容找到路時那種心情,重要的是敢于嘗試。

    “好!”江浩然話不多,能動手絕不多說。

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